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產品概述激光作用在晶圓上通過熱光源瞬時熱燒蝕并氣化或通過冷光源打斷材料分子鍵,在晶圓表面上留 下相應的字符、文字或圖案等信息,晶圓打標具有自動上下料,自動定位,自動打標功能。
設備特點
◆CCD 自 動 精 確 定 位 ;
◆機械手臂自動取放片;
◆正反面都可打標;
◆專業除塵系統;
◆自動計數;
◆空料自動跳片。(選裝)
◆卡塞數(選裝)
產品參數參數名稱 | 參數值 | |
打標形式 | 硬打標 | 軟打標 |
ay | 100瓦 | 20瓦 |
打標深度(mm) | 3.-60um | 2-5um |
打標速度(mm/s) | ≤7000mm | |
Wafer加工尺寸 | 2”-12” | |
位置精度 | ±0.1mm | |
字體標準 | SEMI字體 | |
工業氣源(L/min) | 0.6 | |
產能節拍 | ≥100片/H | |
整機功率(KVA) | 2.5KW | 1.5KW |
除塵標準 | 0.3μm顆粒 | |
應用領域
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